Американский стартап Substrate привлек более $100 млн и стал «единорогом»

Американский стартап Substrate, поддерживающий венчурный фонд Питера Тиля Founders Fund, привлек более $100 млн инвестиций и получил отметку выше $1 млрд, сообщает The Wall Street Journal. Компания претендует на роль одного из самых важных технологических прорывов в современной полупроводниковой индустрии.

Технология, которая может изменить правила игры

Substrate, работающая в Сан-Франциско, разработала новую систему литографии – ключевой этап производства микросхем, где на полупроводниковые пластины наносят микроскопические схемы. В настоящее время этим процессом фактически монопольно управляет нидерландская компания ASML, чьи установки EUV считаются самыми сложными и дорогими в мире.

Система EUV, над которой ASML работала более 25 лет и инвестировала более $10 млрд, стоит примерно от $350 млн за одну установку. Она контролирует узкое технологическое «горлышко» глобального рынка чипов и определяет темпы развития всей отрасли.

Substrate заявляет, что их разработка способна обеспечить сопоставимое качество нанесения рисунка, но на принципиально ином технологическом подходе к лазерной обработке. Такой метод должен быть проще во внедрении, значительно дешевле и быстрее, чем EUV-решения ASML.

Ставка на технологическую независимость США

По информации WSJ, компания уже интегрирует свою технологию в новые строящиеся на территории США производственные объекты. Инвесторы из Founders Fund, General Catalyst, In-Q-Tel и других фондов видят в этом возможность укрепить внутреннюю полупроводниковую инфраструктуру США, что критически важно, учитывая геополитическую конкуренцию и риски глобальных цепей поставок.

Новая технология Substrate может стать первым реальным вызовом доминированию ASML за последние десятилетия и создать конкуренцию в сфере, где ее практически не существовало.